瀏覽 的方式： 作者 Chao, T
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 30-五月-2005 | Characterization of CF4-plasma fluorinated HfO2 gate dielectrics with TaN metal gate | Lai, CS; Wu, WC; Wang, JC; Chao, T; 物理研究所; Institute of Physics |
| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 30-五月-2005 | Characterization of CF4-plasma fluorinated HfO2 gate dielectrics with TaN metal gate | Lai, CS; Wu, WC; Wang, JC; Chao, T; 物理研究所; Institute of Physics |