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瀏覽 的方式： 作者 Chao-Cheng Chung

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1998應用於低電壓操作的假晶高電子遷移率電晶體之GaAs/ Al0.2Ga0.8As選擇性閘極蝕刻製程鍾炤正; Chao-Cheng Chung; 張 翼; 郭正次; Edward Y. Chang; C.T. Kuo; 材料科學與工程學系
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