瀏覽 的方式： 作者 Chin-Fa Yeh
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 2006 | 超薄含氮氧化層創新製程技術應用在n型金氧半場效電晶體之特性研究 | 葉建宏; Chien-Hung Yeh; 葉清發; 羅正忠; Chin-Fa Yeh; Jen-Chung Lou; 電子研究所 |
| 2005 | 高介電常數材料（HfAlOxNy）在MOS元件上特性之研究 | 傅文煜; Wen-Yu Fu; 葉清發; Chin-Fa Yeh; 電子研究所 |
| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 2006 | 超薄含氮氧化層創新製程技術應用在n型金氧半場效電晶體之特性研究 | 葉建宏; Chien-Hung Yeh; 葉清發; 羅正忠; Chin-Fa Yeh; Jen-Chung Lou; 電子研究所 |
| 2005 | 高介電常數材料（HfAlOxNy）在MOS元件上特性之研究 | 傅文煜; Wen-Yu Fu; 葉清發; Chin-Fa Yeh; 電子研究所 |