瀏覽 的方式： 作者 Fan, KM
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 1-四月-2005 | Effects of post CF(4) plasma treatment on the HfO(2) thin film | Lai, CS; Wu, WC; Fan, KM; Wang, JC; Lin, SJ; 物理研究所; Institute of Physics |
| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 1-四月-2005 | Effects of post CF(4) plasma treatment on the HfO(2) thin film | Lai, CS; Wu, WC; Fan, KM; Wang, JC; Lin, SJ; 物理研究所; Institute of Physics |