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公開日期標題作者
2006利用氟摻雜前處理技術應用於高介電常數閘極介電層薄膜電晶體之研究張宏仁; Hong-Ren Chang; 羅正忠; 邱碧秀; Jen-Chung Lou; Bi-Shiou Chiou; 電子研究所