瀏覽 的方式: 作者 Li, Yi-Shang
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公開日期 | 標題 | 作者 |
---|---|---|
2009 | 氟化緩衝層應用於接觸孔蝕刻停止層局部形變矽金氧半場效電晶體鈍化層之特性與研究 | 李翊裳; Li, Yi-Shang; 羅正忠; Lou, Jen-Chung; 電子研究所 |
公開日期 | 標題 | 作者 |
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2009 | 氟化緩衝層應用於接觸孔蝕刻停止層局部形變矽金氧半場效電晶體鈍化層之特性與研究 | 李翊裳; Li, Yi-Shang; 羅正忠; Lou, Jen-Chung; 電子研究所 |