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國立陽明交通大學機構典藏
瀏覽 的方式: 作者 Lu, CP
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顯示 1 到 8 筆資料,總共 8 筆
公開日期
標題
作者
1-十一月-2001
Comparison of novel cleaning solutions, with various chelating agents for post-CMP cleaning on poly-Si film
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Chiu, TH
;
Lee, YH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-五月-2001
Investigations of effects of bias polarization and chemical parameters on morphology and filling capability of 130 nm damascene electroplated copper
Chang, SC
;
Shieh, JM
;
Lin, KC
;
Dai, BT
;
Wang, TC
;
Chen, CF
;
Feng, MS
;
Li, YH
;
Lu, CP
;
材料科學與工程學系
;
Department of Materials Science and Engineering
1-七月-2000
Novel cleaning solutions for polysilicon film post chemical mechanical polishing
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chen, CC
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Yang, WL
;
Tsai, MS
;
Lu, CP
;
Chang, WH
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-八月-2004
Novel one-step aqueous solutions to replace pregate oxide cleans
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Chin, TH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-六月-2001
One-step cleaning solution to replace the conventional RCA two-step cleaning recipe for pregate oxide cleaning
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Ko, FH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-十月-2000
Optimum conditions for novel one-step cleaning method for pre-gate oxide cleaning using robust design methodology
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-六月-2002
Performance evaluation of cleaning solutions enhanced with tetraalkylammonium hydroxide substituents for post-CMP cleaning on poly-Si film
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Lee, YH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-2002
Wetting effect on gap filling submicron damascene by an electrolyte free of levelers
Chang, SC
;
Shieh, JM
;
Lin, KC
;
Dai, BT
;
Wang, TC
;
Chen, CF
;
Feng, MS
;
Li, YH
;
Lu, CP
;
材料科學與工程學系
;
Department of Materials Science and Engineering