標題: 低維度硫族合金之電遷移與擴散行為研究
A Study of Electromigration and Diffusion Behaviors of Low-Dimensional Chalcogenides
作者: 謝宗雍
HSIEH TSUNG-EONG
國立交通大學材料科學與工程學系(所)
公開日期: 2014
官方說明文件#: MOST103-2221-E009-057-MY2
URI: http://hdl.handle.net/11536/101222
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=8357761&docId=447534
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