自組式金屬奈米島陣列之製作方法

Abstract

一種自組式金屬奈米島陣列之製作方法，係藉由在一半導體基材上進行一濺鍍製程，以形成一金屬奈米島陣列。利用此種製作方法，僅需單一濺鍍製程，即可完成金屬奈米島陣列的製作，相較於習知，不僅可有效減少繁瑣之製程步驟，更可進一步地節約能源、電力及製作成本。