完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 陳慶耀 | en_US |
| dc.contributor.author | 巫文良 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:12:04Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-16T06:12:04Z | - |
| dc.date.issued | 2012-09-16 | en_US |
| dc.identifier.govdoc | B05C009/08 | zh_TW |
| dc.identifier.govdoc | H01L021/30 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/103389 | - |
| dc.description.abstract | 本發明提供一種塗佈裝置、塗佈方法以及控制磁性流體之方法，其是利用一徑向磁場施加於一磁性流體，以驅使磁性流體自徑向磁場之中心往外輻射狀延展，藉以避免旋轉塗佈技術所產生的問題。 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.title | 塗佈裝置、塗佈方法以及控制磁性流體之方法 | zh_TW |
| dc.type | Patents | en_US |
| dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
| dc.citation.patentnumber | 201236768 | zh_TW |
| 顯示於類別： | 專利資料 | |
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