標題: | 雷射微加工處理全光纖型元件之製作方法 |
作者: | 祁甡 陳南光 |
公開日期: | 1-四月-2006 |
摘要: | 本案係指一種雷射微加工處理全光纖型元件之製作方法,係直接對光纖之部分光殼施以雷射切削去除,使得光纖內的消逝場(evanescent field)能夠裸露出來,切削的深度可藉由量測雷射光干涉條紋間距的方法得知;雷射切削形成的消逝場之作用長度則可透過改變光纖曲率半徑控制。將側削後之光纖彼此靠合,使其光消逝場能夠發生耦合後予以加熱熔合或施以熔燒拉錐(fuse–tapering),即可用來製作光纖耦合器、光塞取多工器(add/drop multiplexer)、光纖窄波道多工/解多工器及光纖光柵等光纖元件。 |
官方說明文件#: | G02B006/255 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/104201 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | 200610991 |
顯示於類別: | 專利資料 |