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dc.contributor.author郭正次en_US
dc.contributor.author林兆焄en_US
dc.contributor.author駱安亞en_US
dc.contributor.author駱伯遠en_US
dc.date.accessioned2014-12-16T06:13:46Z-
dc.date.available2014-12-16T06:13:46Z-
dc.date.issued2004-07-01en_US
dc.identifier.govdocC01B033/02zh_TW
dc.identifier.govdocC23C016/02zh_TW
dc.identifier.govdocC23C016/513zh_TW
dc.identifier.govdocG11B005/00zh_TW
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dc.identifier.govdocC23C016/02zh_TW
dc.identifier.govdocC23C016/513zh_TW
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dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/104306-
dc.description.abstract本發明係一種控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程,係以電子迴旋共振微波電漿沉積法(化學氣相沉積法),成長包覆磁性材料之碳奈米結構及其後處理時,施以適當的磁場以改進磁性異向性;並以表面具有觸媒和添加物之基材通以直流偏壓源及加熱,做電漿前處理使進行基材表面蝕刻,再使反應氣體進行化學氣相沉積;藉此,達到控制奈米結構材料之尺寸、形狀、形成具方向性排列成長之奈米結構,可有效提高磁記憶媒體之紀錄密度,並具保護隔離效果以避免相互干擾,而且具磁異方性和矯頑磁力高的效果。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.title控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程zh_TW
dc.typePatentsen_US
dc.citation.patentcountryTWNzh_TW
dc.citation.patentnumber200410906zh_TW
顯示於類別:專利資料