完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
---|---|---|
dc.contributor.author | 郭正次 | en_US |
dc.contributor.author | 林兆焄 | en_US |
dc.contributor.author | 駱安亞 | en_US |
dc.contributor.author | 駱伯遠 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:13:46Z | - |
dc.date.available | 2014-12-16T06:13:46Z | - |
dc.date.issued | 2004-07-01 | en_US |
dc.identifier.govdoc | C01B033/02 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | C23C016/02 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | C23C016/513 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | G11B005/00 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | C01B033/02 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | C23C016/02 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | C23C016/513 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | G11B005/00 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/104306 | - |
dc.description.abstract | 本發明係一種控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程,係以電子迴旋共振微波電漿沉積法(化學氣相沉積法),成長包覆磁性材料之碳奈米結構及其後處理時,施以適當的磁場以改進磁性異向性;並以表面具有觸媒和添加物之基材通以直流偏壓源及加熱,做電漿前處理使進行基材表面蝕刻,再使反應氣體進行化學氣相沉積;藉此,達到控制奈米結構材料之尺寸、形狀、形成具方向性排列成長之奈米結構,可有效提高磁記憶媒體之紀錄密度,並具保護隔離效果以避免相互干擾,而且具磁異方性和矯頑磁力高的效果。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.title | 控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程 | zh_TW |
dc.type | Patents | en_US |
dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
dc.citation.patentnumber | 200410906 | zh_TW |
顯示於類別: | 專利資料 |