具有空氣介質層之半導體光電元件及空氣介質層之製作方法

標題:	具有空氣介質層之半導體光電元件及空氣介質層之製作方法
作者:	盧廷昌黃煇閔郭浩中王興宗
公開日期:	11-十一月-2014
官方說明文件#:	H01L033/00 H01L033/10
URI:	http://hdl.handle.net/11536/104486
專利國:	TWN
專利號碼:	I460885
顯示於類別：	專利資料

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