提高光偵測度之光偵測元件及其形成方法

Abstract

一種光偵測元件之形成方法，包括：提供基板；在基板上形成透明導電薄膜；在透明導電薄膜上形成導電高分子層；在導電高分子層上形成有機主動層；在有機主動層上形成電荷阻擋層；以及在電荷阻擋層上形成陰極金屬。