Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 洪 國永 | en_US |
| dc.contributor.author | 曾 繁根 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:16:24Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-16T06:16:24Z | - |
| dc.date.issued | 2010-04-22 | en_US |
| dc.identifier.govdoc | H01L021/027 | zh_TW |
| dc.identifier.govdoc | G03F007/20 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/105827 | - |
| dc.description.abstract | 【課題】垂直露光工程および傾斜露光工程を行うことが可能である上、露光角度を精確に制御し、露光後の微細構造の傾斜角度を調整することが可能な液浸傾斜リソグラフィ装置を提供する。【解決手段】液浸傾斜リソグラフィ装置は、フォトマスク10およびウェーハ12を挟持するために用いるホルダー200と、底板112と、軸受け孔116が穿設された複数の側壁114とを互いに緊密に接合させて収納空間を形成するディップ槽100と、軸受け孔116に貫設させることが可能な軸132を側面に有するステージ130と、収納空間に貯留されてステージ130を浸漬させる液体と、軸132に接続され且つ回転させてステージ130を傾斜させることが可能な回転機構140と、フォトマスク10およびウェーハ12へ照射させる紫外線を放射する露光光源と、露光光源とホルダー200との間で、紫外線の進路に配置されたフィルタとを備える。【選択図】図1B | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.title | 液浸傾斜リソグラフィ装置 | zh_TW |
| dc.type | Patents | en_US |
| dc.citation.patentcountry | JPN | zh_TW |
| dc.citation.patentnumber | 2010093217 | zh_TW |
| Appears in Collections: | Patents | |
