完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 洪 國永 | en_US |
| dc.contributor.author | 曾 繁根 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:16:24Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-16T06:16:24Z | - |
| dc.date.issued | 2010-04-22 | en_US |
| dc.identifier.govdoc | H01L021/027 | zh_TW |
| dc.identifier.govdoc | G03F007/20 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/105827 | - |
| dc.description.abstract | 【課題】垂直露光工程および傾斜露光工程を行うことが可能である上、露光角度を精確に制御し、露光後の微細構造の傾斜角度を調整することが可能な液浸傾斜リソグラフィ装置を提供する。【解決手段】液浸傾斜リソグラフィ装置は、フォトマスク１０およびウェーハ１２を挟持するために用いるホルダー２００と、底板１１２と、軸受け孔１１６が穿設された複数の側壁１１４とを互いに緊密に接合させて収納空間を形成するディップ槽１００と、軸受け孔１１６に貫設させることが可能な軸１３２を側面に有するステージ１３０と、収納空間に貯留されてステージ１３０を浸漬させる液体と、軸１３２に接続され且つ回転させてステージ１３０を傾斜させることが可能な回転機構１４０と、フォトマスク１０およびウェーハ１２へ照射させる紫外線を放射する露光光源と、露光光源とホルダー２００との間で、紫外線の進路に配置されたフィルタとを備える。【選択図】図１Ｂ | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.title | 液浸傾斜リソグラフィ装置 | zh_TW |
| dc.type | Patents | en_US |
| dc.citation.patentcountry | JPN | zh_TW |
| dc.citation.patentnumber | 2010093217 | zh_TW |
| 顯示於類別： | 專利資料 | |
