標題: | 反應性模板之製備方法、奈米材料之製備方法及奈米材料 |
作者: | 裘性天 李紫原 王隆昇 盛焙蓀 |
公開日期: | 1-五月-2006 |
摘要: | 一種在一不干擾反應的惰性氣體氛圍下,將反應物A均勻塗佈於具特殊形貌的模板T上,以使形成一製備奈米材料用之具有反應物A的模板TA,於反應器中不干擾反應的惰性氣體氛圍下,使模板TA之反應物A與反應物B起反應,以製備一具有生成物C的反應性模板TC;以及於不干擾反應的惰性氣體氛圍下,使用該反應性模板,利用溶劑將具有生成物C的反應性模板TC中之模板T予以移除,使形成奈米材料之製備方法,及所製得的具有與模板T相同之特殊形貌的奈米材料。 |
官方說明文件#: | C01B006/04 B05D003/00 C01B006/04 B05D003/00 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/106337 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | I254030 |
顯示於類別: | 專利資料 |