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低溫沉積氧化層的方法
低溫沉積氧化層的方法
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00593735.pdf
(2.07 MB)
Date
2004-06-21
Authors
葉清發
陳柏翰
王碩晟
徐中玓
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
DOI
Abstract
一種低溫沉積氧化層的方法,在利用液相沉積氧化層之前先使用臭氧處理,以於基板表面成長原生氧化層,再沉積液相氧化層,並且可以於氧化層形成後施以電漿退火處理,可獲得高品質氧化膜,而所有製程均可在室溫下進行。
Description
Keywords
Citation
URI
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/106432
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