標題: 高濃度硫化氫去除系統及方法
作者: 曾慶平
林威志
公開日期: 16-四月-2014
摘要: 本發明係有關於一種高濃度硫化氫去除系統及方法,其中本發明之高濃度硫化氫去除系統包括:一化學除硫模組,具有一氣體通入口、一氣體排出口及一液體排出口,且一含硫化氫氣體係由氣體通入口通入至化學除硫模組中;一化學儲存單元,包括一化學氧化劑;一液體噴灑單元,其中化學儲存單元中之化學氧化劑係透過液體噴灑單元通入至化學除硫模組;一生物再生單元,包括一再生化學氧化劑之生物體且與化學儲存單元連接;以及一硫沉澱排出模組,係與該化學除硫模組之該液體排出口連接。
官方說明文件#: B01D053/52
B01D053/79
URI: http://hdl.handle.net/11536/106567
專利國: TWN
專利號碼: 201414535
顯示於類別:專利資料


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