高濃度硫化氫去除系統及方法

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	曾慶平	en_US
dc.contributor.author	林威志	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-16T06:17:45Z	-
dc.date.available	2014-12-16T06:17:45Z	-
dc.date.issued	2014-04-16	en_US
dc.identifier.govdoc	B01D053/52	zh_TW
dc.identifier.govdoc	B01D053/79	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/106567	-
dc.description.abstract	本發明係有關於一種高濃度硫化氫去除系統及方法，其中本發明之高濃度硫化氫去除系統包括：一化學除硫模組，具有一氣體通入口、一氣體排出口及一液體排出口，且一含硫化氫氣體係由氣體通入口通入至化學除硫模組中；一化學儲存單元，包括一化學氧化劑；一液體噴灑單元，其中化學儲存單元中之化學氧化劑係透過液體噴灑單元通入至化學除硫模組；一生物再生單元，包括一再生化學氧化劑之生物體且與化學儲存單元連接；以及一硫沉澱排出模組，係與該化學除硫模組之該液體排出口連接。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	高濃度硫化氫去除系統及方法	zh_TW
dc.type	Patents	en_US
dc.citation.patentcountry	TWN	zh_TW
dc.citation.patentnumber	201414535	zh_TW
顯示於類別：	專利資料

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