統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| Dual-metal-gate-integration complementary metal oxide semiconductor process scheme using Ru positive-channel metal oxide semiconductor and TaC negative-channel metal oxide semiconductor gate electrodes | 116 |
本月總瀏覽
| 六月 2025 | 七月 2025 | 八月 2025 | 九月 2025 | 十月 2025 | 十一月 2025 | 十二月 2025 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Dual-metal-gate-integration complementary metal oxide semiconductor process scheme using Ru positive-channel metal oxide semiconductor and TaC negative-channel metal oxide semiconductor gate electrodes | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 3 | 0 |
檔案下載
| 檢視 | |
|---|---|
| 000249170100030.pdf | 28 |
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 96 |
| 美國 | 14 |
| 德國 | 2 |
| 澳大利亞 | 1 |
| 印度 | 1 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 94 |
| Kensington | 5 |
| Buffalo | 3 |
| Menlo Park | 3 |
| Beijing | 2 |
| Sacramento | 2 |
| Edmond | 1 |