完整後設資料紀錄
DC 欄位語言
dc.contributor.author謝宗雍zh_TW
dc.contributor.authorHSIEH TSUNG-EONGen_US
dc.date.accessioned2016-03-28T08:17:51Z-
dc.date.available2016-03-28T08:17:51Z-
dc.date.issued2015en_US
dc.identifier.govdocMOST103-2221-E009-057-MY2zh_TW
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/130478-
dc.identifier.urihttps://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11269234&docId=454691en_US
dc.description.sponsorship科技部zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.title低維度硫族合金之電遷移與擴散行為研究zh_TW
dc.titleA Study of Electromigration and Diffusion Behaviors of Low-Dimensional Chalcogenidesen_US
dc.typePlanen_US
dc.contributor.department國立交通大學材料科學與工程學系(所)zh_TW
顯示於類別:研究計畫