超低介電碳氮化矽薄膜之研究

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	呂志鵬	zh_TW
dc.contributor.author	Leu Jihperng	en_US
dc.date.accessioned	2016-03-28T08:17:52Z	-
dc.date.available	2016-03-28T08:17:52Z	-
dc.date.issued	2015	en_US
dc.identifier.govdoc	MOST103-2221-E009-181-MY3	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/130507	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11265363&docId=453651	en_US
dc.description.sponsorship	科技部	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	超低介電碳氮化矽薄膜之研究	zh_TW
dc.title	Fabrication and Development of Ultra-Low-K Silcion Carbonitride Films	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學材料科學與工程學系（所）	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫