SiHx (x=1-4)矽薄膜沉積的天然氣表面反應

完整後設資料紀錄

DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	布力汗	zh_TW
dc.contributor.author	Putikam Raghunath	en_US
dc.date.accessioned	2016-03-28T08:17:53Z	-
dc.date.available	2016-03-28T08:17:53Z	-
dc.date.issued	2015	en_US
dc.identifier.govdoc	MOST103-2113-M009-011-MY2	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/130531	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11275664&docId=456412	en_US
dc.description.sponsorship	科技部	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	SiHx (x=1-4)矽薄膜沉積的天然氣表面反應	zh_TW
dc.title	Gas-Surface Reactions of SiHx (X=1-4) in Si-Thin Film Deposition	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學應用化學系（所）	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫