應用氧化物半導體薄膜電晶體之反相器的研製

標題:	應用氧化物半導體薄膜電晶體之反相器的研製 Fabrication and Characterization of Oxide-Semiconductor TFT-Based Inverters
作者:	林鴻志 LIN HORNG-CHIH 國立交通大學電子工程學系及電子研究所
公開日期:	2016
官方說明文件#:	MOST104-2221-E009-073-MY2
URI:	http://hdl.handle.net/11536/130958 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11722782&docId=479822
顯示於類別：	研究計畫

APA	林., & LIN H. (2016). 應用氧化物半導體薄膜電晶體之反相器的研製. https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11722782&docId=479822.
Bibtex	@article{2016, title={應用氧化物半導體薄膜電晶體之反相器的研製}, author={林鴻志 and LIN HORNG-CHIH}, journal={https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11722782&docId=479822}, year={2016}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/130958}, }