統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| Thermal stability of trimethylsilylated mesoporous silica thin films as the ultralow-k dielectric for copper interconnects | 109 |
本月總瀏覽
| 六月 2024 | 七月 2024 | 八月 2024 | 九月 2024 | 十月 2024 | 十一月 2024 | 十二月 2024 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Thermal stability of trimethylsilylated mesoporous silica thin films as the ultralow-k dielectric for copper interconnects | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 2 |
檔案下載
| 檢視 | |
|---|---|
| 000232643600034.pdf | 16 |
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 97 |
| 美國 | 10 |
| 印度 | 1 |
| 台灣 | 1 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 96 |
| Menlo Park | 5 |
| Kensington | 3 |
| Beijing | 1 |
| Sacramento | 1 |
| Taipei | 1 |
| University Park | 1 |