統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| A thick CESL stressed ultra-small (Lg=40nm) SiGe-channel MOSFET fabricated with 193nm scanner lithography and TEOS hard mask etching | 2 |
本月總瀏覽
| 七月 2024 | 八月 2024 | 九月 2024 | 十月 2024 | 十一月 2024 | 十二月 2024 | 一月 2025 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| A thick CESL stressed ultra-small (Lg=40nm) SiGe-channel MOSFET fabricated with 193nm scanner lithography and TEOS hard mask etching | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 1 | 0 |
檔案下載
| 檢視 |
|---|
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 澳大利亞 | 1 |
| 蒙古 | 1 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Ulaanbaatar | 1 |