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| Formation of NiSi-silicided p(+)n shallow junctions by BF2+ implantation into/through silicide and rapid thermal annealing | 8 |
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| Formation of NiSi-silicided p(+)n shallow junctions by BF2+ implantation into/through silicide and rapid thermal annealing | 0 | 1 | 0 | 1 | 3 | 1 | 1 |
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