統計資料

總造訪次數

檢視
The Strained-SiGe Relaxation Induced Underlying Si Defects Following the Millisecond Annealing for the 32 nm PMOSFETs 109

本月總瀏覽

檔案下載

檢視
000299292100068.pdf 36

國家瀏覽排行

檢視
中國 99
美國 9
愛爾蘭 1

縣市瀏覽排行

檢視
Shenzhen 97
Menlo Park 6
Kensington 3
Beijing 2