統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| Improvement on Electrical Characteristics of HfO2 MIS Capacitor with Dual Plasma Treatment | 111 |
本月總瀏覽
| 六月 2024 | 七月 2024 | 八月 2024 | 九月 2024 | 十月 2024 | 十一月 2024 | 十二月 2024 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Improvement on Electrical Characteristics of HfO2 MIS Capacitor with Dual Plasma Treatment | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 |
檔案下載
| 檢視 | |
|---|---|
| 000301040100033.pdf | 8 |
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 95 |
| 美國 | 13 |
| 愛爾蘭 | 1 |
| 印度 | 1 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 94 |
| Menlo Park | 7 |
| Kensington | 4 |
| Beijing | 1 |
| Edmond | 1 |
| University Park | 1 |