標題: Rapid thermal chemical vapor deposition of in-situ nitrogen-doped polysilicon for dual gate CMOS
作者: Sun, SC
Wang, LS
Yeh, FL
Chen, CH
奈米中心
Nano Facility Center
公開日期: 1995
URI: http://hdl.handle.net/11536/20049
http://dx.doi.org/10.1109/VLSIT.1995.520887
ISBN: 0-7803-2602-4
DOI: 10.1109/VLSIT.1995.520887
期刊: 1995 SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY: DIGEST OF TECHNICAL PAPERS
起始頁: 121
結束頁: 122
顯示於類別:會議論文


文件中的檔案:

  1. A1995BE44J00061.pdf

若為 zip 檔案,請下載檔案解壓縮後,用瀏覽器開啟資料夾中的 index.html 瀏覽全文。