統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| Characterization of Ultra-Thin Ni Silicide Film by Two-Step Low Temperature Microwave Anneal | 123 |
本月總瀏覽
| 六月 2025 | 七月 2025 | 八月 2025 | 九月 2025 | 十月 2025 | 十一月 2025 | 十二月 2025 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Characterization of Ultra-Thin Ni Silicide Film by Two-Step Low Temperature Microwave Anneal | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 10 | 1 |
檔案下載
| 檢視 | |
|---|---|
| 000334161400007.pdf | 21 |
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 98 |
| 美國 | 21 |
| 台灣 | 4 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 95 |
| Menlo Park | 5 |
| Taipei | 4 |
| Houston | 3 |
| Kensington | 3 |
| Ashburn | 2 |
| Beijing | 2 |
| Wilmington | 2 |
| Buffalo | 1 |
| Fairfield | 1 |