完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 錢奐宇 | en_US |
dc.contributor.author | 吳耀銓 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T01:39:54Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T01:39:54Z | - |
dc.date.issued | 2010 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT079718553 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/44937 | - |
dc.description.abstract | 由於一般發光二極體內部磊晶層為極性c面氮化鎵,在如此結構下使得元件勢必會產生內建電場,進而影響內部量子效率。故本研究製作a面與r面的圖形化藍寶石基板(Patterned Sapphire Substrate,PSS),接著進行LED結構磊晶並期許在基板上成長出非極性或半極性的氮化鎵晶面。 在a面圖形化藍寶石基板的實驗中,經乾加濕蝕刻的方式製作出的基板,經磊晶後發現表面非常粗糙無法進行後續LED元件製作。而乾蝕刻製作的基板(DPSS)經磊晶後,由XRD、TEM與EPD的結果顯示,氮化鎵磊晶品質大幅提升,但仍為c面之晶面。而在光輸出功率部分與拋光片(Planar)基板相比提升59.6%,這項結果主要是由於PSS可同時提升內部量子效率與光取出效率的緣故。 在r面圖形化藍寶石基板的實驗中,成功利用乾加濕蝕刻的方式製作出具有c-plane like側壁之圖形化藍寶石基板。磊晶後經XRD、TEM的結果顯示,氮化鎵具有兩種結晶平面,一為從平台成長出來且磊晶品質較差的非極性晶面(11-20)GaN I,另一為從c-plane like側壁成長且磊晶品質較好的半極性晶面(11-22)GaN II 。而半極性晶面(11-22)有較好的磊晶品質,主要由於從側壁成長之後有較大的側向成長區域 ,使得內部缺陷密度減少。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 圖案化藍寶石基板 | zh_TW |
dc.subject | 濕蝕刻 | zh_TW |
dc.subject | 氮化鎵 | zh_TW |
dc.subject | 發光二極體 | zh_TW |
dc.subject | patterned sapphire substrate | en_US |
dc.subject | wet etching | en_US |
dc.subject | GaN | en_US |
dc.subject | LED | en_US |
dc.title | 以a-plane與r-plane線狀圖形化藍寶石基板成長GaN 發光二極體之研究 | zh_TW |
dc.title | Fabrication of a-plane and r-plane line patterned sapphire substrates for the growth of GaN-based LED | en_US |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 材料科學與工程學系 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |