製程導向雙極性電晶體模擬模型

Abstract

本文建立了一個製程導向雙極性電晶體解析模型，該模型可以用來預測電晶體的電氣 特性及提供電路模型的參數。本中深入地探討嚴重影響電流增益的射極高摻雜效應及 集極極高電流效應。其中，本文利用一個廣義微分電流傳輸方程式分析高摻雜射極區 少數載子注入的問題，並利用兩種不同的操作模式研究基極與集極接面在高電流時的 行為。 本文以雙擴散的雙極性電晶體為模擬的例子，計算直流增益對集極電流的關係、共射 極輸出特性曲線及增益一頻寬乘積對集極電流的關係，並與實驗比較，結果十分吻合 。 由於本文所發展之模型為製程導向和解析性的模型，故用做自動設計時，可以節省大 量的計算時間及提供足夠的訊息以作最佳的設計。