穩頻及穩功率內鏡式氦氖雷射之比較性研究

Abstract

三種雙模內鏡式氦氖雷射及三種單模縱向Zeeman雷射的頻率及功率的穩定方法被詳細 的比較研究。頻率穩定度±5.0×１０-10（雙模內鏡式雷射），±2.1×１０-10（雷 射）及功率穩定度±0.02％（雙模內鏡式雷射）±0.04％（Zeeman雷射）已被完成。 用雙模雷射全部輸出功率穩頻的方法，被做了更詳盡的討論，並提出此方法的限制。 另外提出以Zeeman效應全部輸山功率穩步的新方法且此方法的遺率穩定度已被完成至 ±2.1×１０-10左右。 一個控制系統的補償網路及預熱（preheating）的要求也被提出，並經實驗證明其對 系統的重要性。