Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 黃玲媛 | en_US |
dc.contributor.author | HUANG, LING-YUAN | en_US |
dc.contributor.author | 涂肇嘉 | en_US |
dc.contributor.author | TU, ZAO-JIA | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:03:57Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:03:57Z | - |
dc.date.issued | 1985 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742500018 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/52634 | - |
dc.description.abstract | 本文將探討2024鋁銅鎂合金氧化膜性質的改進。藉由氧化膜顯微硬度、耐磨耗性、表 面粗糙度及膜厚來評估各變數包括:外加電壓、電流密度、硫酸濃度、硫酸浴中草酸 的添加,電解液的溫度,電源供應模式-交流電或直流電及材質中合金元素分布之均 勻程度對氧化膜性質的影響。 結果顯示在交流條件下,氧化膜成長速率比直流條件慢且耐磨耗性差;但是,直流條 件下生成之氧化膜其表面粗糙度及顯微硬度則較大。在5 %硫酸浴中,以2024-T4 為 底材外加交流電流所得到的氧化膜長得最好,最平直;而在相同條件下,在2024-F上 所生成的氧化膜卻最差。 氧化膜上之空洞對氧化膜性質有重大影響。2024-F氧化膜上較多之空洞,在某些方面 的應用上使得2024-F比2024-T4 更適合作為硬質陽極處理的材質。 為得較大的顯微硬度、耐磨耗性及成長速率較快,表面粗糙度較小之氧化膜,2024鋁 合金進行陽極處理的最佳條件是以2024-F為基底金屬,以20伏特直流電通過0 ℃之15 %硫酸浴所得的氧化膜性質最好。其維克氏顯微硬度為435VPN,耐磨耗性為每磨耗一 千轉損失2.76毫克,氧化膜成長速率每分鐘長6.9 微米,表面粗糙度Ra值為1.1 微米 。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 2024鋁合金 | zh_TW |
dc.subject | 硬質陽極氧化處理 | zh_TW |
dc.subject | 顯微硬度 | zh_TW |
dc.subject | 耐磨耗性 | zh_TW |
dc.subject | 表面粗糙度 | zh_TW |
dc.subject | 2024-T4 | en_US |
dc.subject | 2024-F | en_US |
dc.title | 2024鋁合金硬質陽極氧化處理之研究 | zh_TW |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 應用化學系碩博士班 | zh_TW |
Appears in Collections: | Thesis |