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dc.contributor.author黃玲媛en_US
dc.contributor.authorHUANG, LING-YUANen_US
dc.contributor.author涂肇嘉en_US
dc.contributor.authorTU, ZAO-JIAen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:03:57Z-
dc.date.available2014-12-12T02:03:57Z-
dc.date.issued1985en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742500018en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/52634-
dc.description.abstract本文將探討2024鋁銅鎂合金氧化膜性質的改進。藉由氧化膜顯微硬度、耐磨耗性、表 面粗糙度及膜厚來評估各變數包括:外加電壓、電流密度、硫酸濃度、硫酸浴中草酸 的添加,電解液的溫度,電源供應模式-交流電或直流電及材質中合金元素分布之均 勻程度對氧化膜性質的影響。 結果顯示在交流條件下,氧化膜成長速率比直流條件慢且耐磨耗性差;但是,直流條 件下生成之氧化膜其表面粗糙度及顯微硬度則較大。在5 %硫酸浴中,以2024-T4 為 底材外加交流電流所得到的氧化膜長得最好,最平直;而在相同條件下,在2024-F上 所生成的氧化膜卻最差。 氧化膜上之空洞對氧化膜性質有重大影響。2024-F氧化膜上較多之空洞,在某些方面 的應用上使得2024-F比2024-T4 更適合作為硬質陽極處理的材質。 為得較大的顯微硬度、耐磨耗性及成長速率較快,表面粗糙度較小之氧化膜,2024鋁 合金進行陽極處理的最佳條件是以2024-F為基底金屬,以20伏特直流電通過0 ℃之15 %硫酸浴所得的氧化膜性質最好。其維克氏顯微硬度為435VPN,耐磨耗性為每磨耗一 千轉損失2.76毫克,氧化膜成長速率每分鐘長6.9 微米,表面粗糙度Ra值為1.1 微米 。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject2024鋁合金zh_TW
dc.subject硬質陽極氧化處理zh_TW
dc.subject顯微硬度zh_TW
dc.subject耐磨耗性zh_TW
dc.subject表面粗糙度zh_TW
dc.subject2024-T4en_US
dc.subject2024-Fen_US
dc.title2024鋁合金硬質陽極氧化處理之研究zh_TW
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department應用化學系碩博士班zh_TW
顯示於類別:畢業論文