異方性蝕刻技術與紅外影像模擬器之製作發展

Abstract

本文主旨在發展一種能模擬紅外影像的積體電路矽晶片的製程；我們利用由二胺基乙 幣、笨二醇和去離子水混合而成之異方性蝕刻溶液在矽晶片上製作浮橋式的電阻，棋 跨在蝕空的凹谷上；通過電流使此電阻成為紅外之熱源。文中對異方性蝕刻的機制、 特性、各種不同溶液、以及其蝕刻結果有相當的探討。 我們曾加６毫安之電流，而使該浮橋電阻熱至攝氏一千度以上，且發出黃色的白熾光 。４×４的試驗晶片，包括附屬之電晶體開關電路也已設計完成，而可以與浮橋之製 程同時進行；浮橋成功率達９５％以上。文中，我們且對浮橋結構的強度及熱傳做過 簡單的分析。