完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 歐陽妙佳 | en_US |
dc.contributor.author | Miao-Chia Ou Yang | en_US |
dc.contributor.author | 王興宗 | en_US |
dc.contributor.author | S. C. Wang | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:05:41Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:05:41Z | - |
dc.date.issued | 2003 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009124505 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/53857 | - |
dc.description.abstract | 在本論文中,我們利用光激發螢光(PL)、螢光激發光(PLE)、顯微光激螢光(μ-PL)等光譜技術,來分析含有氮化銦鎵/氮化鎵(InGaN/GaN)多重量子井(Multiple-Quantum Well, MQW)結構奈米柱(nanorods)的光學特性。 由光譜量測可以得知,奈米柱相對於一般塊材(bulk),會有114 meV的藍移(blue shift),這是由於蝕刻成奈米柱後,材料內部會有部分的應力被釋放,導致減少了約0.45MV/cm的壓電場,使原本受壓電影響而傾斜的能帶變的平緩些,進而使躍遷的能量產生藍移的現象。此外,我們更發現奈米柱能夠有效的提升17倍的發光強度,這是由於蝕刻成奈米柱後,增加了能夠出光面積與活性層體積的比例,提高光的抽出效率;以及壓電被減小後,增加了電子與電洞再結合的機率,使光強度變強。此外,藉由化學性濕蝕刻的表面處理方式,改善了奈米柱中由乾蝕刻所帶來的傷害,降低輻射性再結合的速度,使發光強度再增加18%。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 氮化銦鎵/氮化鎵 多重量子井 | zh_TW |
dc.subject | 奈米柱 | zh_TW |
dc.subject | 顯微光激螢光 | zh_TW |
dc.subject | 光激螢光 | zh_TW |
dc.subject | 螢光激發光 | zh_TW |
dc.subject | InGaN/GaN MQW | en_US |
dc.subject | nanorod | en_US |
dc.subject | micro-PL | en_US |
dc.subject | PL | en_US |
dc.subject | PLE | en_US |
dc.title | 氮化銦鎵/氮化鎵多重量子井奈米柱光學特性之研究 | zh_TW |
dc.title | Optical Properties of InGaN/GaN Multiple-Quantum Well Nanorods | en_US |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 光電工程學系 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |