完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 黃健銘 | en_US |
| dc.contributor.author | HUANG,JIAN-MING | en_US |
| dc.contributor.author | 雷添福 | en_US |
| dc.contributor.author | 陳茂傑 | en_US |
| dc.contributor.author | 張振雄 | en_US |
| dc.contributor.author | LEI,TIAN-FU | en_US |
| dc.contributor.author | CHEN,MAO-JIE | en_US |
| dc.contributor.author | ZHANG,ZHEN-XIONG | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:06:33Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-12T02:06:33Z | - |
| dc.date.issued | 1989 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT782123027 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/54354 | - |
| dc.description.abstract | 本論文對N 型砷化鎵歐姆接觸做了各種組成的電性及微細結構上的研究,這些組成包 含了以下的型式:Au/Ge/GaAs,Au/Pt/Ge/GaAs,Au/Cr/Ge/GaAs,及Au/Ti/W/Au/Ge/ GaAs。其中介于於上層Au及下層Au/Ge 之間的Cr和TiW 主要是扮演擴散障壁的角色, 為了比較起見,夾Pt以及不夾任何中間層的結構也同時研究。 電性方面的量測是採用標準TLM 方法,為了進一步了解各種歐姆接觸的熱穩定性,我 們也做了長時間處理測試,實驗結果顯示Au/Ti/W/Au/Ge 結構不需要很嚴格的熱處理 條件即可得到較低的接觸電阻,較好的表面,且最穩定。而 Au/Cr/Au/Ge結構的接觸 電阻也很低,但是它的表面及熱穩定性都較差。另一接觸結構 Au/Pt/Au/Ge有很平滑 且均勻的表面,但是唯有熱處理的時間較長, 溫度較高, 此結構的接觸電阻才會較低 , 而它的熱穩定性也比夾擴散障壁的結構差。至於不夾任何中間層的結構 Au/Ge,它 的電性及物性都是所有結構中最差的。 另一方面,穿透式電子顯微鏡,X 光繞射用Auaer 表面分析被嘗試用來解釋本實驗的 電性結果。 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.subject | 鉻 | zh_TW |
| dc.subject | 鈦鎢 | zh_TW |
| dc.subject | N型砷化鎵 | zh_TW |
| dc.subject | 熱穩定 | zh_TW |
| dc.subject | 歐姆接觸 | zh_TW |
| dc.subject | 擴散障壁 | zh_TW |
| dc.subject | 熱處理 | zh_TW |
| dc.subject | 穩定性 | zh_TW |
| dc.subject | TLM | en_US |
| dc.title | 鉻輿鈦鎢擴散障壁對N型砷化鎵熱穩定歐姆接觸之影響 | zh_TW |
| dc.type | Thesis | en_US |
| dc.contributor.department | 光電工程學系 | zh_TW |
| 顯示於類別: | 畢業論文 | |

