Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.author林建良en_US
dc.contributor.authorLIN,JIAN-LIANGen_US
dc.contributor.author陳家富en_US
dc.contributor.authorCHEN,JIA-FUen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:08:39Z-
dc.date.available2014-12-12T02:08:39Z-
dc.date.issued1990en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT792489025en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/55466-
dc.description.abstract最近,我們致力於尋找能成長鑽石的新氣體源,目前已發現不加入大量的氫氣也能成 長鑽石薄膜。本實驗採用微波電漿化學氣相沉積法,分別以乙炔+二氧化碳和甲烷+ 十氧化碳為反應氣體,二氧化碳的流量固定為30sccm,改變乙炔或甲烷的流量以得到 在矽晶片的表面上成長出結晶性鑽石。 實驗的結果顯示,生成的鑽石顆粒為有星形結晶的尖銳多結晶,薄膜表面則由呈平滑 (111) 面的多結晶所組成。甲烷+二氧化碳系和乙炔+二氧化碳系膜的最大成長速率 分別為3.11μm/hr和0.98μm/hr。而兩者在生成結晶性鑽石方面,前者允許有較寬的 碳源濃度範圍。此外,在乙炔+二氧化碳系結晶性鑽石薄膜的最大成長速率約為0.98 μm/hr,與一氧化碳+氫氣系相當,為甲烷+氫氣系的二倍。在甲烷+二氧化碳系產 生結晶性鑽石薄膜的最大成長速率大約為2μm/hr ,為甲烷+氫氣系的四倍和一氧化 碳+氫氣系的二倍。另外,我們做了乙炔+氫氣系的實驗,實驗中可以明顯的看出乙 炔與氫氣混合反應時,成長速率非常小的事實,最大的結晶性鑽石膜成長速率只有大 約0.1∼0.2μm/hr。 最後,我們可以以X-射線繞射和CL光譜分析來比較薄膜與天然Ⅱa 型鑽石之間的結晶 性及品質,證明鑽石合成的氣體源使用乙炔+二氧化碳氣體系及甲烷+二氧化碳氣體 系統的可行性。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject微波電漿zh_TW
dc.subject化學氣相zh_TW
dc.subject沈積法zh_TW
dc.subject氣體系zh_TW
dc.subject成長鑽石zh_TW
dc.subject結晶zh_TW
dc.subject氫氣系zh_TW
dc.title利傭微波電漿化學氣相沈積法以C H -CO 及CH -CO 氣體系成長鑽石zh_TW
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department機械工程學系zh_TW
Appears in Collections:Thesis