使用電光調制器的改良式外差干涉儀

Abstract

本文提出一種光學技術，用來測量波片的相位延遲，更進一步，將結合此技術以及斐 索干涉儀進行微小位移的測量。本文的裝置是一種外差干涉的設計。在光學結構中， 我們採用高壓鋸齒波電訊號驅動電光調制器，用以製造互相垂直且具頻差的線性偏極 光束，達成外差檢測的目的。本論文，除了對四分之一波片之相位延遲進行檢測外， 並對光學面完成表面掃描測試，這種量測技術，所測得之相位延遲以及微小位移的光 程差，可達1nm 以下的精度。