4.4微米多層膜光學帶通濾光器的研製

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	陳發慈	en_US
dc.contributor.author	CHEN, FA-CI	en_US
dc.contributor.author	謝正雄	en_US
dc.contributor.author	WIE, ZHENG-XIONG	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:09:03Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:09:03Z	-
dc.date.issued	1991	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT802124007	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/55742	-
dc.description.abstract	本文以Ge和SiO□ 為光學材料對，矽晶片當基板，設計一4.1微米截通4.6微米截止峰值在4.4 微米的帶通濾光片，蒸鍍機是單電子鎗蒸鍍機。實驗結果和模擬結果很吻合，對於在短波長的波段出現了模擬時沒有的突起，我們也提出了改善的方法。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	微米多層膜光學帶	zh_TW
dc.subject	通瀘光器	zh_TW
dc.title	4.4微米多層膜光學帶通濾光器的研製	zh_TW
dc.title	Fabrication of multilayer optical band-pass filter at 4.4 um	en_US
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	光電工程學系	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文