高週波濺鍍法製備方向性氮化鋁薄膜

Abstract

本研究是以高週波磁控濺鍍法(RF MAGNETRON SPUTTERING) 製作氮化鋁薄膜，藉由 改變鍍膜參數如鍍膜壓力、N□/Ar混合比例、RF輸出功率及基板溫度等來影響薄膜 的性質，並以Ｘ光繞射法及穿透式電子顯微鏡來觀察晶長方向及微觀結構之變化， 以掃描式電子顯微鏡觀察表面結構以FTIR偵測薄膜內部化學鏈結合性質之改變。 於本文中，我們試著提出一個簡化的模型，以數學式： <1> = A' exp(-Q/2kT)*(τ)□/ □ 來解釋各種鍍膜參數對晶長方向的影響。此外，利用 TEM 及 Rocking curve 的分 析方法，發現由於斜向濺鍍的效應，使得(002) 柱狀晶體產生傾斜效應的特性。