反應性交流高頻濺散法及碳化鈦鍍膜之研究

Abstract

本實驗的主要目的在於發展高品質碳化鈦陶瓷薄膜的交流濺鍍技術，碳化鈦薄膜具有 極高之硬度可增加工具鋼、模具鋼和沖模等磨耗生命，而且其具有良好的高溫強度和 耐蝕能力且可使用於高溫結構材料，另方面碳化鈦薄膜具有特殊之光學性質，在光學 材料上也有應用之潛能。 將設計與建立合乎要求之交流濺鍍系統，尋求成長高品質碳化鈦薄膜在鋼和鋁基板上 的製程條件，電子顯微鏡和X 光繞射法將用來作成長薄膜之相與顯微結構之分析，各 種物理性質如硬度、耐磨性、附著性之量測結果將與製程條件相互關連進而改善製程 以得到最佳化之結果。 實驗情形 (1) 已完成交流濺鍍系統之設計與建立，並運轉順利。 (2) 建立碳化鈦薄膜在鋼基板上低溫成長(300℃) 之技術。 (3) 完成薄膜成長最佳化製程條件之調定，基本上，在1 公分見方的鋼板上，已成功 地生長出表面光滑的碳化鈦薄膜。