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dc.contributor.author謝叔達en_US
dc.contributor.authorXIE, SHO-DAen_US
dc.contributor.author邱碧秀en_US
dc.contributor.authorQIU, BI-XIUen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:09:29Z-
dc.date.available2014-12-12T02:09:29Z-
dc.date.issued1991en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT802430044en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/56077-
dc.description.abstract以射頻磁控濺鍍法製備銦錫氧薄膜於壓克力基板上已能成功地在低溫下成長出高品 質的薄膜(在可見光區具有高穿透性、導電性良好、在紅外光區具有高反射率)。 銦錫氧薄膜與壓克力基板間的附著力能藉由對壓克力基板進行反應式離子蝕刻而增 加。壓克力的硬度值(17HK)在鍍上銦錫氧薄膜後增加到179.2HK 。銦錫氧薄膜的 光學常數可由其穿透光譜圖上的干涉條紋推算並以銦錫氧薄膜做第一層設計出雙層 V字型抗反射層。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject射頻磁控濺鍍法zh_TW
dc.subject壓克力基板zh_TW
dc.subject製備銦錫氧薄膜zh_TW
dc.title以射頻磁控濺鍍法在壓克力基板上製備銦錫氧薄膜之研究zh_TW
dc.titleDeposition of ITD thin films on acrylic substrates by RF magnetron sputteringen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department電子研究所zh_TW
顯示於類別:畢業論文