以射頻磁控濺鍍法在壓克力基板上製備銦錫氧薄膜之研究

Abstract

以射頻磁控濺鍍法製備銦錫氧薄膜於壓克力基板上已能成功地在低溫下成長出高品 質的薄膜（在可見光區具有高穿透性、導電性良好、在紅外光區具有高反射率）。 銦錫氧薄膜與壓克力基板間的附著力能藉由對壓克力基板進行反應式離子蝕刻而增 加。壓克力的硬度值（17HK）在鍍上銦錫氧薄膜後增加到179.2HK 。銦錫氧薄膜的 光學常數可由其穿透光譜圖上的干涉條紋推算並以銦錫氧薄膜做第一層設計出雙層 Ｖ字型抗反射層。