完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 張國雄 | en_US |
dc.contributor.author | Zhang, Guo-Xiong | en_US |
dc.contributor.author | 李建平 | en_US |
dc.contributor.author | Li, Jian-Ping | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:10:02Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:10:02Z | - |
dc.date.issued | 1991 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT804430004 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/56455 | - |
dc.description.abstract | 本論文目的在研究如何以分子束磊晶在低溫成長高純度的砷化鎵,砷化鋁鎵,以及 這些材料在量子井紅外線偵測器之應用。 首先基於材料的光致激發光譜與分子束磊晶系統生長環境的關連性,我們歸納出影 響磊晶層品質的主要因素,並成長異質接面雷射驗証低溫成長的砷化鋁鎵與高溫成 長的砷化鋁鎵具有相同的品質。我們在砷化鋁鎵內注入少量的銦,用以減少磊晶層 內的缺陷,明顯的改進砷化鋁鎵的品質,由光致激發光譜觀察到自由激子,證明我 們已長出目前最好品質的砷化鋁鎵。我們也在雙樟壁共振穿透結構中注入適量的銦 ,驗証銦對元件特性有正面影響。 砷化鋁鎵在過去十餘年被廣泛應用,但是幾種常被用以分析鋁在砷化鋁鎵含量的方 法都不精確,我們以高解析度電子顯微鏡,輔以高能量電子繞射,光致激發光譜以 及X-ray 雙晶繞射,定出精確分析鋁含量的方法。 二次成長是分子束磊晶技術重要一環,砷化銦薄膜常被用以保護二次成長前之磊晶 層。本論文中我們研究了砷化銦保護膜對砷化鋁鎵及量子井材質之影響。 在材料應用方面,我們研製了紅外線偵測器,對於這種元件操作機制作了整體性討 論,同時我們也研製了單一波段及雙波段的紅外線偵測器。此外,我們提出雙週期 光柵的新概念,以擴大量子井紅外線偵測器的反應頻寬。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 砷化鎵 | zh_TW |
dc.subject | 砷化鋁鎵 | zh_TW |
dc.subject | 紅外線偵測器 | zh_TW |
dc.subject | 電子工程 | zh_TW |
dc.subject | ELECTRONIC-ENGINEERING | en_US |
dc.title | 砷化鎵/砷化鋁鎵分子束磊晶成長及其在多重量子井紅外線偵測器之應用 | zh_TW |
dc.title | GaAs/AlGaSa molecular beam epitaxy and its application to multiple quantum well infrared detectors | en_US |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |