開槽矩形金屬空腔之電磁共振及其抑制

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	呂政鴻	en_US
dc.contributor.author	Cheng-Hung Lu	en_US
dc.contributor.author	吳先生	en_US
dc.contributor.author	Dr. Lin-Kun Wu	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:10:51Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:10:51Z	-
dc.date.issued	1992	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT810436055	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/57040	-
dc.description.abstract	在本論文中我們藉由動差法來觀察鍍上電阻性薄膜的介質條在抑制二維開槽矩形金屬空腔電磁共振現象之效果 ,得到的結果指出當電阻值等於 188.5 歐姆 ,介質常數等於4-j*0.4 時鍍上電阻性薄膜的介質條置於(1) 開槽處(2) 內徑之適當位置(3) 內徑靠近開槽處(4) 在整面背牆上可得到良好的抑制效果然而當鍍上電阻性薄膜的介質條置於其它位置及 /或使用較高之電阻值時便無法明顯地抑制此電磁共振現象 .此外由波導理論亦可幫助我們尋找較適當的位置放置此鍍上電阻性薄膜的介質條 ,最後由奇異值分解(SVD) 方法分析阻抗矩陣我們可以容易地由此觀察有損結構之共振現象.	zh_TW
dc.language.iso	en_US	en_US
dc.subject	共振;雷達反射截面積;開槽	zh_TW
dc.subject	Resonances;RCS;slot	en_US
dc.title	開槽矩形金屬空腔之電磁共振及其抑制	zh_TW
dc.title	Resonancess in the EM Interaction with a Slotted Conducting Rectangular Cylinder and Their Suppressions	en_US
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	電信工程研究所	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文