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dc.contributor.author曾國佑en_US
dc.contributor.authorZHNG, GUO-YOUen_US
dc.contributor.author謝正雄en_US
dc.contributor.authorXIE, ZHENG-XIONGen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:11:02Z-
dc.date.available2014-12-12T02:11:02Z-
dc.date.issued1992en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT812124016en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/57171-
dc.description.abstract本論文的主要目的是在設計及製造一支能夠產生電子束能量為10 keV的電子槍,以作 為本實驗室將來從事有關光電材料表面分析的工具。 電子槍之設計是根據電子光學之理論,而電子光學之理論即是將電子束通過空間中場 分佈區域之軌跡以幾何光學的方式表示。所以在本文中將簡單介紹電子光學的基礎理 論,並且利用其理論設計一支具有收斂角較小的電子槍。再根據設計之結構製成實件 並測其能是否達成設計時之要求。最後在結論時,將探討如何改進將可使電子槍的性 能更臻完善。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject高能zh_TW
dc.subject電子槍zh_TW
dc.title高能電子槍之設計zh_TW
dc.titleDesign of the high energy electron gunen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department光電工程學系zh_TW
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